01 应特格
注册
申请/注册号
: 35430093申请日期
: 2018-12-20商标类型
: 一般初审公告期号
: 1648初审日期
: 2019-05-20注册公告期号
: 1660注册日期
: 2019-08-21截止日期
: 2029-08-20是否共有商标
: 否代理机构
: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
保护的商品工业用胶活性炭活性炭（一般工业用）气体净化剂科学用化学制剂（非医用、非兽医用）非医用、非兽医用化学试剂工业用化学制剂制造印刷电路板用掩膜化合物半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料工业用化学品工业用固态气体焊接用保护气体复合材料（即由聚合物和碳纳米管组成的复合材料，用于进一步制造模塑制品）含有气体供应设备的化学固态气体（用于存储气体和灵活分发气体，即化学固态气体，存储于包含用于灵活分发该气体的调压器和流量控制阀的金属器皿中，使该气体保持在加压或液态状态下，用于半导体制造）化工原料（用于半导体晶片上的薄膜沉积来制造半导体的化学组合物）化工原料（用于半导体、平板显示器和太阳能板制造中，在基板上沉积薄膜的化学组合物）化学品（即气相沉积用化学成分）化学品（用于半导体、集成电路、平板显示器、太阳能板和光电产品的制造）化学品（用于半导体制造的化学试剂传送系统）化学品（用于处理半导体用途的危险气体）化学组合物（即半导体制造的化学试剂）化学组合物（即试剂（即用于电子和半导体制造工业的外延薄膜材料、有机金属源试剂化合物和配合物，以及离子注入材料））化学组合物（即用于电子和半导体制造工业的半导体制造的试剂）化学组合物（用于将微电子制造业的制造材料从微电子产品（如晶片和微电子设备）中去除，使得被去除的材料能够再循环）化妆品（气相沉积金属化）加工气体（用于半导体、平板显示器、光碟机和录音媒体）可吸收气体（存储于装有吸附材料的气体供应容器中，用于半导体及微电子产品）气体（存储于装有吸附材料的气体供应容器中，用于半导体的制造及其他工业生产过程）气体（存储于装有吸附材料的气体供应容器中，用于半导体、微电子、太阳能板、平板显示器的制造）亚大气压气体（即用于半导体、太阳能板和平板显示器制造的气体，但不包括天然气体）亚大气压气体源（即吸附于吸附剂上的气体（存储于气体供应容器，用于半导体、微电子、太阳能板盒平板显示器的制造））亚大压气体（用于离子注入和化学气象沉积）
未涉及的群组
商标申请流程2020年06月13日 变更商标代理人 ---- 核准通知打印发送
2020年05月12日 变更商标申请人/注册人名义/地址 ---- 申请收文
2020年05月12日 变更商标代理人 ---- 申请收文
2019年10月08日 商标注册申请 ---- 注册证发文
2019年04月24日 商标注册申请 ---- 受理通知书发文
2019年03月06日 商标注册申请 ---- 等待补正回文
2019年02月26日 商标注册申请 ---- 补正通知发文
2018年12月20日 商标注册申请 ---- 申请收文
已注册其他近似商标
09应特格
01应特格
17应特格
16应特格
06应特格
35应特格
22应特格
03应特格
11应特格
07应特格
