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威科仪器有限公司

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威科仪器有限公司商标注册量分析

申请公司商标总量申请公司核准注册量平均核准注册率
151173.33%

威科仪器有限公司商标类别数据分析-

07类 机械器具1109类 电子电器4
数据分析:目前威科仪器有限公司主要注册07类 机械器具商标 (共11件), 主要经营电子工业设备显微镜产品

威科仪器有限公司主营产品数据分析(前十)

1电子工业设备2显微镜3半导体晶片加工机4制造显示面板用的蚀刻设备5平板显示器制造机6计算机软件(已录制)7已录制的计算机操作程序8计算机硬件9金属有机化学气相沉积设备10已录制的计算机程序(程序)

威科仪器有限公司申请人申请商标

09 VEECO当前进度:
申请日期:2023-09-18商品详细:计算机访问控制用计算机软件,计算机软件应用程序(可下载),浓度计,气体压力指示器,流量传感器,传感器,测速度用传感器,测量用传感器,触摸屏传感器,气体分析仪器,气体检测仪,气体流量计
09 VEECO当前进度:
申请日期:2023-09-18商品详细:测量用传感器,流量传感器,传感器,气体压力指示器,气体流量计,测速度用传感器,气体检测仪,触摸屏传感器,浓度计,气体分析仪器,计算机访问控制用计算机软件,计算机软件应用程序(可下载)
09 VEECO当前进度:
申请日期:2023-09-18商品详细:气体分析仪器,浓度计,触摸屏传感器,气体检测仪,测速度用传感器,气体流量计,气体压力指示器,传感器,流量传感器,测量用传感器
09 VEECO当前进度:
申请日期:2023-09-18商品详细:气体分析仪器,触摸屏传感器,测量用传感器,气体压力指示器,气体流量计,测速度用传感器,传感器,流量传感器,气体检测仪,浓度计
07 MAKING A MATERIAL DIFFERENCE当前进度:等待实质审查
申请日期:2022-03-31商品详细:半导体制造设备,电子工业设备,半导体晶片处理设备,半导体制造机,半导体晶片加工机,气体分离设备,化学工业用电动机械,光学冷加工设备,半导体行业使用蚀刻化学品的半导体单晶片加工机,制造机器和设备,即物理、化学和电子技术设备及其零件,类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统,热沉积源,半导体制造机器和磁存储制造机器,包括其组件,制造机器和设备,即包括组件的分子束外延(MBE)系统和包括晶片载体和组件的金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统,包括组件的晶片加工机器,由用于退火目的的激光器组成的激光退火系统,包括组件,用于制造半导体晶片和其他基板的光刻机,包括组件,用于原子层沉积系统的半导体晶片加工机,包括其组件,使用溶剂化学品的半导体单晶片湿法加工机,气体传感器和控制器,用于调节各种制造过程中的气体浓度和/或传质速率,包含用于真空镀膜工艺的离子源和离子源控制器的机器,用于制造半导体和集成电路的分子束外延坩埚和扩散池,通过触摸屏模式用于离子束系统应用的计算机控制软件,在半导体生产中高真空下操作并暴露在化学品流中加热的高速旋转盘,光学镀膜离子束机,用于镀膜多层光学薄膜,包括其组件
09 MAKING A MATERIAL DIFFERENCE当前进度:等待实质审查
申请日期:2022-03-31商品详细:光学器械和仪器,处理半导体晶片用计算机软件,激光测量仪器,半导体器件,半导体晶片,可下载的计算机程序,操作系统程序,半导体存储器,半导体,光学半导体,传感器,气体流量监测器,电动控制装置,科学机器和仪器,即物理、化学和电子技术设备及其零件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源,半导体制造机器和磁存储制造机器,包括组件,科学机器和设备,即包括组件的分子束外延(MBE)系统和包括晶片载体和组件的金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统,包括组件的晶片加工机器,由用于退火目的的激光器组成的激光退火系统,包括其组件,用于制造半导体晶片和其他基板的光刻机,包括其组件,用于原子层沉积系统的半导体晶片加工机,包括组件,半导体晶片加工设备,半导体行业使用蚀刻化学品的半导体单晶片处理机,使用溶剂化学品的半导体单晶片湿法处理机,气体传感器和控制器,用于调节各种制造过程中的气体浓度和/或传质的速率,用于真空镀膜工艺的含离子源和离子源控制器的机器,用于制造半导体和集成电路的分子束外延坩埚及扩散池,通过触摸屏模式的用于离子束系统应用的计算机控制软件,半导体生产中高真空下操作并暴露在化学品流中加热的高速旋转盘,光学镀膜离子束机,用于镀膜多层光学薄膜,包括组件
07 威科当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2017-06-27商品详细:电子工业设备
07 PMMAX当前进度:注册
申请日期:2017-06-08商品详细:电子工业设备
07 EPIK当前进度:注册
申请日期:2017-03-23商品详细:化学气相沉淀设备,金属有机化学气相沉积设备,半导体晶片加工机,制造显示面板用的蚀刻设备,平板显示器制造机,金属有机化学气相沉积机器
07 TURBODISC当前进度:注册
申请日期:2017-03-23商品详细:化学气相沉淀设备,金属有机化学气相沉积设备,半导体晶片加工机,制造显示面板用的蚀刻设备,平板显示器制造机
07 PIEZOCON当前进度:注册
申请日期:2017-03-23商品详细:半导体晶片加工机,制造显示面板用的蚀刻设备,平板显示器制造机
07 SPECTOR当前进度:注册
申请日期:2016-08-09商品详细:光学冷加工设备,电子工业设备,电镀机,静电工业设备,真空喷镀机械
09 威科当前进度:注册
申请日期:2016-07-25商品详细:显微镜
07 威科当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2016-07-25商品详细:电子工业设备
09 维易科当前进度:注册
申请日期:2016-02-26商品详细:物理学设备和仪器,计算机软件(已录制),显微镜,已录制的计算机程序(程序),精密测量仪器,已录制的计算机操作程序,计算机程序(可下载软件),测量仪器,可下载的计算机应用软件,计算机硬件,数据处理设备
07 维易科当前进度:注册
申请日期:2016-02-26商品详细:电子工业设备
07 VEECO当前进度:注册
申请日期:2015-10-08商品详细:电子工业设备
09 VEECO当前进度:注册
申请日期:2015-10-08商品详细:物理学设备和仪器,计算机软件(已录制),显微镜,已录制的计算机程序(程序),精密测量仪器,已录制的计算机操作程序,计算机程序(可下载软件),测量仪器,计算机硬件,可下载的计算机应用软件,数据处理设备
07 MAXBRIGHT当前进度:注册
申请日期:2011-08-23商品详细:化学气相沉积设备(晶片加工机器)
09 VEECO当前进度:注册
申请日期:2006-12-30商品详细:量具,显微镜,测量仪器和设备,表面轮廓测量仪
07 VEECO当前进度:注册
申请日期:2006-12-30商品详细:半导体制造工业加工设备,半导体加工和装配机器,存储器加工和装配机器