富士纺控股株式会社商标注册量分析
申请公司商标总量申请公司核准注册量平均核准注册率
937883.87%
富士纺控股株式会社商标类别数据分析-
25类 服装鞋袜(共43件)24类 家用纺品(共29件)03类 化妆清洁(共8件)23类 线纱丝纺(共7件)07类 机械器具(共5件)35类 广告商业(共1件)
数据分析:目前富士纺控股株式会社主要注册25类 服装鞋袜商标 (共43件), 主要经营内衣和服装产品
富士纺控股株式会社主营产品数据分析(前十)
1内衣2服装3帽子4童装5纺织品毛巾6袜子7纺织品手帕8床单(纺织品)9非编织纺织品10枕巾
富士纺控股株式会社申请人申请商标
07类 NEXTLA当前进度:
申请日期:2023-11-29商品详细:电子工业设备,半导体晶片加工机,半导体芯片制造设备,电子元件制造设备,玻璃抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),半导体制造设备,静电工业设备,半导体晶片处理设备,抛光机器和设备(电动的),玻璃用抛光机器和设备(电动的),半导体晶片表面抛光机器和设备(电动的),玻璃基板抛光机器和设备(电动的),处理陶瓷和金属的研磨机,处理陶瓷和金属的研磨机,铝基板抛光用机器和设备(电动的),半导体晶片用抛光垫(机器部件),铝基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),玻璃基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件)
07类 LAPPAS当前进度:
申请日期:2023-11-29商品详细:半导体晶片处理设备,半导体制造设备,半导体晶片加工机,抛光机器和设备(电动的),处理陶瓷和金属的研磨机,半导体芯片制造设备,处理陶瓷和金属的研磨机,静电工业设备,电子工业设备,电子元件制造设备,铝基板抛光用机器和设备(电动的),玻璃基板抛光机器和设备(电动的),半导体晶片表面抛光机器和设备(电动的),玻璃用抛光机器和设备(电动的),玻璃抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),玻璃基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),半导体晶片用抛光垫(机器部件),铝基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件)
07类 NEXTILE当前进度:
申请日期:2023-11-29商品详细:铝基板抛光用机器和设备(电动的),玻璃用抛光机器和设备(电动的),玻璃基板抛光机器和设备(电动的),半导体晶片表面抛光机器和设备(电动的),半导体制造设备,半导体晶片加工机,电子工业设备,抛光机器和设备(电动的),半导体芯片制造设备,处理陶瓷和金属的研磨机,电子元件制造设备,静电工业设备,处理陶瓷和金属的研磨机,半导体晶片处理设备,铝基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),玻璃基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),半导体晶片用抛光垫(机器部件),玻璃抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件)
25类 MELINERD当前进度:注册公告
申请日期:2018-10-19商品详细:短袜,浴衣,内衣,服装,内裤,T恤衫,针织服装,睡衣,袜,短袖衬衫,衬衫,乳罩
24类 佳布丽克特当前进度:注册
申请日期:2017-02-17商品详细:纺织品餐巾,布,编织织物,纺织品手帕,内衣用织物,纺织织物,纱布(布),纺织品毛巾,织物,纺织品洗脸巾,纺织纤维织物,棉织品,平针织物
24类 CAPRICOT当前进度:注册
申请日期:2017-02-17商品详细:纺织品餐巾,编织织物,布,纺织品手帕,内衣用织物,纺织织物,纱布(布),纺织品毛巾,织物,纺织品洗脸巾,纺织纤维织物,棉织品,平针织物
07类 宝力帕斯当前进度:注册
申请日期:2012-05-30商品详细:研磨半导体晶片表面用的研磨设备(电子工业设备),玻璃基板研磨用机器和装置,玻璃研磨垫(机器部件),金属铝用研磨垫(机器部件),金属铝用研磨机器和装置,研磨半导体晶片用的研磨垫(电子工业设备部件),玻璃研磨机器和装置,玻璃基板用研磨垫(机器部件),半导体制造设备(电子工业设备)
07类 博丽帕斯当前进度:注册
申请日期:2012-05-30商品详细:研磨半导体晶片表面用的研磨设备(电子工业设备),玻璃基板研磨用机器和装置,玻璃研磨垫(机器部件),金属铝用研磨垫(机器部件),金属铝用研磨机器和装置,研磨半导体晶片用的研磨垫(电子工业设备部件),玻璃研磨机器和装置,玻璃基板用研磨垫(机器部件),半导体制造设备(电子工业设备)
07类 博利帕斯当前进度:注册
申请日期:2012-05-30商品详细:研磨半导体晶片表面用的研磨设备(电子工业设备),玻璃基板研磨用机器和装置,玻璃研磨垫(机器部件),金属铝用研磨垫(机器部件),金属铝用研磨机器和装置,研磨半导体晶片用的研磨垫(电子工业设备部件),玻璃研磨机器和装置,玻璃基板用研磨垫(机器部件),半导体制造设备(电子工业设备)
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